Previous page이온빔에 의한 이차 전자 방출 현상은 이온빔과 고체와의상호 작용에서 수반될수 있는 기본적인 현상으로, 표면 분석, 핵반응시 입사 입자의 정확한 입사량 측정등에 응용할 수 있다는 장점 때문에 여전히 연구되고 있지만, 아직까지 완벽한 결과를 얻지 못하고 있다.특히 고에너지 이온빔에 의한 이차 전자의 방출 수율 및 에너지는 표적 표면의 조건,고진공 정도등에 민감하게 의존하기 때문에 아직까지도 실험적으로 많은 자료들이 필요하다. 본 연구에서는 다양한 고에너지 이온빔(p,d,He,O,Cl등)과 표적(Au)을 사용하여 이차전자의 발생 수율 및 에너지를 측정하므로서 이차 전자의 발생 구조를 조사하고자 한다.
한국물리학회 1999년도 춘계학술대회, 4. 25, 건국대학교, 서울